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美研究人員放大招,或可讓LED達到零光衰?

發(fā)布時(shí)間:2016-08-04 點(diǎn)擊數:3112

利諾大學(xué)香檳分校研究人員發(fā)展出一種新的方法,提升綠光LED亮度并且提高其效率。

伊利諾大學(xué)的電氣與計算機工程系助理教授Can Bayram發(fā)展出一種新的方法,提升綠光LED亮度并且提高其效率。(所有圖片來(lái)源:伊利諾大學(xué))

使用產(chǎn)業(yè)內標準的半導體長(cháng)晶技術(shù),研究人員在硅基板上制造氮化鎵(GaN)晶體,這種晶體能夠產(chǎn)生高功率的綠光,應用于固態(tài)照明。
伊利諾大學(xué)的電氣與計算機工程系助理教授Can Bayram表示:“這是一個(gè)具有突破性的制程,研究人員成功在可調式的CMOS硅制程上生產(chǎn)新的原料,也就是方形氮化鎵 (cubic GaN),這種原料主要用于綠色波長(cháng)射極?!?br /> 將半導體用于感測以及通訊能夠打開(kāi)可見(jiàn)光通訊的應用,而光通訊正是徹底改變光應用的技術(shù)。支援CMOS制程的LED能夠達到快速、高效率、低功率且多重應用的綠光LED同時(shí)能夠省下許多制程裝置的費用。
通常GaN形成一至兩種晶體結構,六方形或立方體。六方形GaN為熱穩定,且是傳統半導體的應用。不過(guò),六角形GaN較容易出現偏振現象,內部的電場(chǎng)將負電子與正電子分開(kāi),防止他們結合,因此而造成光輸出效率下降。
截至目前為止,研究人員只能使用分子束外延(Molecular beam epitaxy)制造方形GaN,這樣的制程非常昂貴且與MOCVD制程相較之下非常費時(shí)。

研究人員成功在可調式的CMOS硅制程上生產(chǎn)新的原料,也就是方形氮化鎵 (cubic GaN),這種原料主要用于綠色波長(cháng)射極。

Bayram表示:“微影技術(shù)(lithography)以及等向性蝕刻技術(shù)在硅上制造U行凹槽。這層非導電阻隔層扮演了將六角形塑型至方形的關(guān)鍵角色。我們的GaN沒(méi)有內部的電場(chǎng)能夠隔開(kāi)電子,因此,可能會(huì )發(fā)生重疊問(wèn)題,電子和凹洞更快速結合并制造光線(xiàn)?!?br /> Bayram和Liu相信他們的方形GaN晶體可能可以成功讓LED達到零光衰(droop)。對綠色、藍色或UV LED而言,這些LED的發(fā)光效率都會(huì )隨著(zhù)通過(guò)電流的輸入而逐漸衰退,也就是所謂的光衰。
這次的研究顯示出偏振在光衰的問(wèn)題中有舉足輕重的地位,將電子推離凹槽,尤其是低輸入電流的情況下。在零偏振的情況下,方形LED能夠達成更厚的發(fā)光層并解決減少的電子和凹槽重疊以及電流過(guò)載。
效能較好的綠色LED將會(huì )成功打開(kāi)新的LED固態(tài)照明應用。舉例而言,這些LED將可借由混色發(fā)出白光并且達到節能效果。其他先進(jìn)的應用也涵括利用無(wú)熒光的綠色LED制造超平行LED的應用、水中通訊以及例如光遺傳學(xué)以及偏頭痛等生物科技應用。


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